Fused-Silica-Glass
Hoher WiderstandNiedrige Wärmeausdehnung

Quarzglas

Quarzglas wird aufgrund seiner hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften häufig in Hightech-Bereichen wie Halbleitern, Optik und wissenschaftlicher Forschung eingesetzt. Es besteht aus amorphen Materialien aus hochreinem Siliziumdioxid SiO₂ (>99,9 %), das keine anderen Oxide enthält und Verunreinigungen vermeidet.

Bearbeitungsfähigkeit

Wir können komplexe Formen, gekrümmte Oberflächen und leichte Strukturen mit extrem engen Toleranzen in Quarzglas bearbeiten. Oberflächenbehandlungen wie Polieren, Dünnschichtbeschichtung und Sandstrahlen/Aufrauen sind ebenfalls verfügbar, um die Anforderungen von Halbleitern und anderen hochpräzisen Anwendungen zu erfüllen.

Fused Silica Glass Machining
Toleranz ±1 µm
Ebenheit 1 µm (Ø300 mm)
Parallelität 1 µm
Rauheit Ra 0,002 µm
Mikroporen 0,1 mm
Max. Größe Φ400 mm

Vorteile

  • Hohe mechanische Festigkeit
  • Hohe Reinheit >99,9 % SiO₂
  • Extrem niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient
  • Hoher elektrischer Widerstand
  • Hervorragende chemische Beständigkeit
  • Hohe optische Durchlässigkeit

Eigenschaften

Die folgende Tabelle listet die typischen Leistungsparameter unserer Standard-Quarzglasmaterialien auf. Die Werte stammen aus internen Tests und statistischen Analysen von Produktionschargen und dienen nur als Designreferenz. Die tatsächlichen Eigenschaften können je nach Verarbeitungsbedingungen und Chargenvariationen leicht abweichen.

Materialeigenschaften Einheit Geschmolzen
Dichte g/cm³ 2.2
Biegefestigkeit MPa 80
Druckfestigkeit MPa 1100
Elastizitätsmodul GPa 220
Poissonzahl 0.17
Elastizitätsmodul GPa 72
Thermische Eigenschaften Einheit Geschmolzen
Wärmeleitfähigkeit W/m·K 1.38
Schmelzpunkt °C 1730
Maximale Betriebstemperatur °C 1200
Linearer Ausdehnungskoeffizient 10⁻⁶/K 0.55
Elektrische Eigenschaften Einheit Geschmolzen
Dielektrizitätskonstante 1 MHz 3.75
Durchschlagspannung V/cm 400
Dielektrischer Verlust 1 MHz <
Spezifischer Widerstand Ω·cm > 10¹⁸

Interessiert an unseren Quarzglaslösungen?

Fused Silica Glass Applications

Anwendungen

  • Ultraviolettlinsen, Laserfenster, Reflektorsubstrate
  • Infrarot-/Ultraviolettfenster, Hochgeschwindigkeitsflugzeugfenster
  • Quarzküvetten, Laserresonatorlinsen
  • Optische Pfadkomponenten für Spektrometer und Chromatographen
  • Mikrostrukturbautelle, optische Fallenstrukturen, Vakuumkammerfenster
  • Interferometer, Gyroskopsubstrate
  • Hochtemperatur-Gassensorfenster

Anwendungsfälle

Fünfachsige Bearbeitung von Quarzglas

FAQs

Was ist JGS1 Quarzglas?

JGS1 Quarzglas ist ein optisches Quarzmaterial in UV-Qualität, das sich durch hohe Reinheit, hervorragende UV-Durchlässigkeit (185–2500 nm) und überlegene thermische Stabilität auszeichnet. Es ist eine der drei Qualitäten, die durch Chinas GB/T 31447.1-Norm für optisches Quarzglas (JGS1, JGS2, JGS3) definiert sind. JGS1: UV-Qualität, am besten geeignet für tiefe UV- und Präzisionsoptik. JGS2: Standard-Optikqualität für sichtbares bis IR-Licht. JGS3: IR-Qualität, ideal für thermische oder Infrarotanwendungen. Klicken Sie hier, um unseren vollständigen Leitfaden zu JGS1 Quarzglas anzusehen

Unser Bearbeitungsservice für Quarzglasteile
Hochpräzise Fähigkeiten:
Komplexe Formen: Toleranzen bis zu ±1 µm
Zylindrische-/Wellenkomponenten: Toleranzen bis zu ±1 µm
Oberflächenebenheit: bis zu 1 µm
Optische Ebenheit: bis zu 1/20 λ (abhängig von der Wellenlänge)
Mikrolöcher: Durchmesser ab 0,1 mm (Toleranz ±0,01 mm)
Oberflächenrauheit: Ra 0,01 μm für Strukturteile, Ra 0,002 μm für optische Komponenten
Oberflächenbehandlung: Polieren, optische Beschichtung
Wie schneidet Quarzglas im Vergleich zu Zerodur und ULE-Glas ab?

Quarzglas ist eines der am häufigsten verwendeten Glasmaterialien mit niedrigem CTE. Im Vergleich zu Zerodur von SCHOTT und ULE-Glas von Corning hat Quarzglas einen etwas höheren Wärmeausdehnungskoeffizienten, bietet aber eine hervorragende optische Transmission, gute thermische Stabilität und niedrigere Kosten.

Aufgrund dieses Gleichgewichts von Leistung und Erschwinglichkeit wird Quarzglas häufig in der Optik, bei Lasern und in der Halbleiterausrüstung eingesetzt.

Was ist der Unterschied zwischen Quarzglas und Saphirglas?
Beide Materialien zeichnen sich in der Optik und bei hochpräzisen Anwendungen aus. Saphir ist einkristallines Aluminiumoxid, während Quarzglas hochreines Kieselglas ist. Saphirglas hat eine höhere Härte und stärkere Kratzfestigkeit, während Quarzglas einen niedrigeren Wärmeausdehnungskoeffizienten als Saphir aufweist, was zu einer besseren Dimensionsstabilität führt. In Bezug auf die optische Leistung ist Quarzglas für Ultraviolettanwendungen überlegen, während Saphir besser für Anwendungen geeignet ist, die Haltbarkeit und Härte erfordern.
Unterstützen Sie die Dünnschichtverarbeitung für Quarzglas?
Ja, wir unterstützen die Dünnschichtverarbeitung für Quarzglaskomponenten. Darüber hinaus können wir je nach Kundenanforderung verschiedene Oberflächenbehandlungen anbieten, darunter: Sandstrahlen / Oberflächenaufrauen, Präzisionspolieren, Dünnschichtbeschichtung
Diese Prozesse können dazu beitragen, die optische Leistung, die Oberflächeneigenschaften oder die Funktionalität für verschiedene optische und Halbleiteranwendungen zu verbessern.

Macor ist eine bearbeitbare Glaskeramik aus Fluorphlogopit-Glimmerkristallen, die in eine Borosilikatglas-Matrix eingebettet sind. Diese Zusammensetzung verleiht ihr eine seltene
Kombination aus metallähnlicher Bearbeitbarkeit, hervorragender elektrischer Isolierung, geringer Wärmeleitfähigkeit und Stabilität bis zu 1000°C (ohne Last) bei gleichzeitiger Einhaltung sehr enger Toleranzen.